丞德鑫公司生产的钛溅射靶材采用高纯度钛原料，经精密锻造、轧制和机加工而成，致密度高、晶粒均匀，广泛应用于半导体镀膜、光学镀膜、装饰镀膜等领域。可按需提供第三方检测报告。
产品名称：钛溅射靶材
常用牌号：TA1、TA2、GR1、GR2
执行标准：GB/T 2965、ASTM B265
产品特点与加工：高纯度≥99.6%，致密度≥99.5%，晶粒细化均匀，可定制圆形、矩形、环形等多种尺寸
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